迈来芯(Melexis)TruFlux™ 技术突破了电动汽车(EV)与电池储能系统(BESS)中,传统电流传感方案难以兼顾精度与成本的妥协难题。通过在 MLX91230 芯片上运行片上迟滞补偿功能,该技术能够以低成本方案带来磁通门级别的超高测量精度。

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主要优势

  • 高精度:室温下精度 <±0.2%,全温范围内精度 <±0.5%
  • 低失调漂移:失调漂移 < 50mA,可实现精准的小电流测量
  • 固有电气隔离:无需外接隔离放大器即可实现安全的隔离电流测量
  • 系统成本低且结构紧凑:可采用成本低廉的硅钢叠片铁芯,同时性能优于体积庞大、价格高昂的磁通门替代方案
  • 集成流程简化:开发阶段可自动完成磁参数提取,生产阶段采用快速下线精调校准流程
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重新定义霍尔电流检测精度  -  TruFlux

产品介绍

什么是 TruFlux™?

TruFlux™ 是运行于迈来芯霍尔效应传感器IC(如 MLX91230)上的创新型算法与校准方案。该技术克服了低成本铁磁芯固有的磁滞与非线性限制,为高要求的电池管理系统(BMS)应用提供了卓越的超高精度电流 Sensing 功能。

TruFlux - Key Features

简易集成

除片上算法外,TruFlux™可在开发阶段通过单次核心特性表征自动完成参数提取,无需深厚的磁学专业知识。

TruFlux - Simple Integration

DVK91230 开发套件

借助TruFlux™开发套件(DVK91230),即可便捷完成TruFlux™技术的评估工作。该套件支持在您的应用配置环境中开展快速测试、参数提取与快速原型搭建工作。

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特性和优势

  • 高精度:室温下精度 <±0.2%,全温范围内精度 <±0.5%
  • 低失调漂移:失调漂移 < 50mA,可实现精准的小电流测量
  • 固有电气隔离:无需外接隔离放大器即可实现安全的隔离电流测量
  • 系统成本低且结构紧凑:可采用成本低廉的硅钢叠片铁芯,同时性能优于体积庞大、价格高昂的磁通门替代方案
  • 集成流程简化:开发阶段可自动完成磁参数提取,生产阶段采用快速下线精调校准流程